A integração numérica das equações diferenciais ordinárias que descrevem um sistema cinético e a análise de sensibilidade dos resultados aos parâmetros são metodologias cada vez mais utilizadas na cinética química. Neste trabalho, é apresentado um estudo de simulação numérica da decomposição em fases gasosa de CF4 e de misturas CF4/O2 na presença de silício. É analisada a importância relativa dos processos individuais e são calculados os coeficientes de sensibilidade e o efeito da incerteza nos parâmetros. Os resultados são comparados com dados experimentais da literatura para ajustar os parâmetros do modelo. O principal agente de corrosão neste sistema é o flúor atômico. As concentrações das principais espécies (SiF4, CO, CO2 e COF2) dependem da composição da mistura.
