Os efeitos da concentração do monômero e do hexafluorfosfato de tetra butil amônio nos processos de nucleação e crescimento do polifurano no eletrodo de disco de Pt na presença de CH3CN foram estudados pelo método de passos de potencial. Os valores transientes de j/t foram ajustados usando uma equação matemática que considera diferentes contribuições. No primeiro estágio de transição (0 < t < 20 s) não há contribuições correspondentes aos mecanismos IN2D e IN3D controlados por troca de carga, e do mecanismos PN3D sob controle de difusão. Os parâmetros analisados têm efeito distinto nas contribuições envolvendo os processos de nucleação e crescimento. No entanto, dependendo da concentração do monômero, a contribuição sob difusão controlada pode ser de maior ou menor importância, o que confirma a formação de uma "região oligomerica" na interface, durante o processo de polimerização.
